플라즈마 공정 및 진단 기술 (Plasma Processing & Diagnostics)
OLED 디스플레이 공정 기술 (박막봉지공정, 유기박막 용액공정 기술)
양자점 및 기능성 나노입자 재료 합성 및 이를 응용한 발광 다이오드 개발
그래핀 저온 증착 및 용액 공정 개발
학력
(Ph.D.) 공학박사 (M.I.T. ,2000)
약력/경력
Applied Materials, Senior Process Engineer (2000-2004)
학술지 논문
(2024)
Siloxane-based oligomer ligands of indium phosphide quantum dots for improving dispersion in a siloxane matrix.
JOURNAL OF THE OPTICAL SOCIETY OF AMERICA B-OPTICAL PHYSICS.
41,
11
(2024)
Optimizing QLED Performance and Stability via the Surface Modification of PEDOT:PSS Experimental Insights and DFT Calculations.
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES.
16,
42
(2024)
Etch Rate Uniformity Monitoring for Photoresist Etch Using Multi-channel Optical Emission Spectroscopy and Scanning Floating Harmonic Probe in an Inductively Coupled Plasma Reactor.
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING.
44,
6
(2024)
Effect of Discharge Gas Composition on SiC Etching in an HFE-347mmy/O2/Ar Plasma.
MATERIALS.
17,
16
(2024)
Maximization of cytochrome C oxidase enzyme activity by optimizing color conversion from red organic light-emitting diodes.
APPLIED MATERIALS TODAY.
38,
(2024)
Low global warming C5F10O isomers for plasma atomic layer etching and reactive ion etching of SiO2 and Si3N4.
PLASMA PROCESSES AND POLYMERS.
21,
5
(2024)
Quasi‐atomic layer etching of silicon with surface chlorination and removal using Ar or He plasmas.
PLASMA PROCESSES AND POLYMERS.
21,
6
(2024)
Atomic Layer Etching of SiO2 for Nanoscale Semiconductor Devices: A Review.
Applied Science and Convergence Technology.
33,
1
(2023)
Plasma atomic layer etching of ruthenium with surface fluorination and ion bombardment.
PLASMA PROCESSES AND POLYMERS.
21,
3
(2023)
Surface wettability control and fluorination modeling of amorphous carbon films fluorinated with CF4 plasma.
APPLIED SURFACE SCIENCE.
635,
(2023)
Spectral clustering algorithm for real-time endpoint detection of silicon nitride plasma etching.
PLASMA PROCESSES AND POLYMERS.
20,
6
(2023)
Hydrogenated amorphous carbon films deposited using plasma enhanced chemical vapor deposition processes.
KOREAN JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING.
40,
6
(2022)
Low Global Warming C4H3F7O Isomers for Plasma Etching of SiO2 and Si3N4 Films.
ACS SUSTAINABLE CHEMISTRY & ENGINEERING.
10,
32
(2022)
Quantitative Analysis of Mass Spectrometric Signals for the Estimation of Fluorine Radical Densities in CF4 and CF4/O-2 Plasmas.
PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING.
42,
4
(2022)
Atomic layer etching of Al2O3 with NF3 plasma fluorination and trimethylaluminum ligand exchange.
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A.
40,
3
(2022)
Plasma atomic layer etching for titanium nitride at low temperatures.
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B.
40,
2
(2022)
Low-temperature plasma atomic layer etching of molybdenum via sequential oxidation and chlorination.
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A.
40,
2
(2021)
Characterization of sp(2)/sp(3) hybridization ratios of hydrogenated amorphous carbon films deposited in C2H2 inductively coupled plasmas.
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY.
422,
1
(2021)
Etching characteristics of hydrogenated amorphous carbon with different sp(2)/sp(3) hybridization ratios in CF4/O-2 plasmas.
PLASMA PROCESSES AND POLYMERS.
18,
11
(2021)
Enhancing the efficiency of solution-processed inverted quantum dot light-emitting diodes via ligand modification with 6-mercaptohexanol.
OPTICS LETTERS.
46,
6
특허/프로그램
Light-Emitting Structure, Optical Member Having The Light-Emitting Structure, Light-Emitting Device, and Liquid Crystal Display Apparatus.
16/031,145.
20210126.
미국
흡습성 박막을 포함하는 봉지 부재 및 이를 포함하는 유기 전자 장치.
10-2019-0009557.
20200302.
대한민국
무기나노입자 구조체를 포함하는 조성물, 이를 이용한 광변환 박막 및 이를 이용한 디스플레이 장치.
10-2018-0045409.
20191230.
대한민국
무기나노입자 구조체를 포함하는 조성물, 이를 이용한 광변환 박막 및 이를 이용한 디스플레이 장치.
10-2018-0045372.
20191226.
대한민국
플라즈마 공정의 식각 종료점 진단방법.
10-2017-0014025.
20180831.
대한민국
Electroluminescent Diode Having Delayed Fluorescence Quantum Dot.
15/374405.
20180220.
미국
무기나노입자 구조체, 이를 포함하는 박막, 광학 부재, 발광 소자 및 양자점디스플레이 장치.
10-2017-0091066.
20180205.
대한민국
발광 구조체, 이를 포함하는 광학 부재, 발광 소자 및 액정표시장치.
10-2017-0087045.
20180130.
대한민국
유기발광소자용 봉지막 및 광원 유닛.
10-2016-0130018.
20170922.
대한민국
전기분무를 이용한 발광소자 제조 방법.
10-2015-0175695.
20170407.
대한민국
광경화성 수지 조성물, 이를 이용한 휘도 강화 필름 및 이를 포함하는 액정 표시 장치.
10-2015-0166471.
20170306.
대한민국
형광체 코팅용 고형 복합체 및 이의 제조 방법.
10-2015-0012168.
20161227.
대한민국
지연형광-양자점 전계발광다이오드.
10-2015-0176095.
20160623.
대한민국
플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출방법.
10-2014-0096627.
20160119.
대한민국
유기전자소자용 폴리머/무기 다층 박막 봉지.
10-2014-0017311.
20150716.
대한민국
플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 진단방법.
10-2015-0002503.
20150624.
대한민국
플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법.
10-2014-0073093.
20150611.
대한민국
